中商情報網訊：隨著光源、曝光方式不斷改進，光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。第五代光刻機主要采用的是EUV光源，波長為13.5nm，制程節點僅為7-3nm。目前行業內使用最多的是第四代浸入式光刻機，最高制程可達7nm，在7nm之后芯片廠商必須使用最頂級的EUV光刻機。
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數據顯示，2016-2018年，全球IC制造前道光刻機全球銷量整體處于上升趨勢，2018年全球出貨量達到374臺。2019年出貨量略有下降，全年為359臺。
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從競爭格局來看，目前，全球光刻機市場的主要企業即ASML，尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家，從光刻機銷售額來看，2019年三家企業的合計市場份額就占到了全球光刻機市場的90%以上。
值得一提的是，荷蘭ASML公司的主要產品為各級別的光刻機，2019年阿斯麥銷售了229臺光刻機，其中占比最大的是ArFi光刻機，且市場占比高達88%；其次是KrF光刻機，市場占比高達71%。值得注意的是，ASML公司的EUV光刻機的市場占比達到了100%，完全壟斷了整個市場。
尼康：光刻機領域曾經的世界第一，后被ASML所超越。目前公司主要為中高端機型，包括ArF、KrF、KrF、i-line光源。在ASML之后才推出浸入式光刻機，但是已經落后于ASML。而佳能專注于低端產品，只有i-line和Kr-F光刻機，沒有浸入式光刻機，現在佳能已逐漸減少在半導體光刻機領域的投資，轉向面板光刻機領域。
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從產品結構來看，2019年，全球EUV、ArFi、ArF、KrF、i-line光刻機的出貨量分別為26、93、35、103、102臺。2019年ASML、尼康、佳能的光刻機出貨量分別為229、46、84臺，
數據來源：中商產業研究院整理
在國產光刻機領域中，上海微電子(SMEE)一枝獨秀。其產品主要采用ArF、KrF和i-line光源，目前只能達到90nm制程，且主要用于IC的后道封裝和面板領域。SMEE作為國內最領先的光刻機研發企業，有非常多的光刻工藝人才，在產業鏈還未成熟的國內光刻機行業中，人才優勢是主要核心競爭力。作為芯片行業的上游，目前國內還未出現能制造出能滿足芯片行業需求的企業，而有著眾多光刻工藝人才的SMEE，自然而然就成為最有競爭優勢的企業。
2020年6月初，上海微電子宣布將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產浸入式光刻機，國產光刻機有望從此前的90nm工藝一舉突破到28nm工藝。
更多資料請參考中商產業研究院發布的《中國光刻機產業市場前景及投資機會研究報告》，同時中商產業研究院還提供產業大數據、產業情報、產業研究報告、產業規劃、園區規劃、十四五規劃、產業招商引資等服務。
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