二、上游分析
1.主要組件
光刻機生產制造的技術要求極高，ASML一臺光刻機包含了10萬個零部件，需要40個標準集裝箱才能裝下，涉及到上游5000多家供應商，比如德國的光學設備與超精密儀器，美國的計量設備與光源等。一臺光刻機的主要部件包含測量臺與曝光臺、激光器、光束矯正器、能量控制器等11個模塊。
資料來源：中商產業研究院整理
2.光源
高端光刻機含有上萬個零部件，而光學鏡片則是核心部件之一，高數值孔徑的鏡頭決定了光刻機的分辨率以及套值誤差能力；光源則是高端光刻機另一核心部件，光源波長決定了光刻機的工藝能力。光刻機需要體積小、功率高而穩定的光源。
隨著光源、曝光方式不斷改進，光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。目前行業內使用最多的是第四代浸入式光刻機，最高制程可達7nm，在7nm之后芯片廠商必須使用最頂級的EUV光刻機。EUV光刻機主要技術優勢如下：更高的光刻分辨率；生產效率高，光刻工藝簡單。但同時EUV光刻機也存在著許多問題：耗能巨大，能量利用率低；光學系統設計與制造復雜；光罩掩模版表面缺陷。
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