三、中游分析
1.分類
光刻機按照有無掩模可分為有掩模光刻機和無掩模光刻機。這兩類光刻機分別有不同的種類：無掩模光刻機分為電子束直寫光刻機、激光直寫光刻機、離子束直寫光刻機，有掩模光刻機分為接近/接觸式光刻機以及投影光刻機。
資料來源：中商產業研究院整理
2.工作原理
光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。
簡而言之，光刻機本身的原理，其實和相機非常相似，光刻機就像是一臺巨大的單反相機。對比相機和光刻機，被拍攝的物體就等同于微影制程中的光罩，聚光鏡就是單反鏡頭，而底片（感光元件）就是預涂光阻層的晶圓。
光刻機工作原理圖
資料來源：智能電子集成網、中商產業研究院整理
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