4.重點企業分析
全球光刻機市場主要由荷蘭的ASML、日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家占據。如今雖然ASML正逐漸解除對華產品的禁售，但EUV這類的頂尖光刻機由于產能有限。上海微電子深耕光刻機產品研發，承擔多項專項科研任務。目前公司光刻機產品主要包括IC前道光刻機、IC后道封裝光刻機、面板前道光刻機、面板后道封裝光刻機。作為國內光刻機設備領域的領航者，上海微電子承擔著國產光刻機設備的希望，若能實現光刻機設備的國產化，中國大力發展的半導體產業必將邁上一個新臺階。
資料來源：中商產業研究院整理
四、下游分析
國內光刻機市場，除了應用于IC前道的光刻機在不斷的發展之外，封裝光刻機以及LED/MEMS/功率器件光刻機的市場也不斷的發展壯大中。其中后面兩者國產化率較高。
1.晶圓制造
生產集成電路的簡單步驟為：利用模版去除晶圓表面的保護膜。將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路。用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質。晶圓是指制作硅半導體電路所用的硅晶片，一片晶圓可以制作數十個集成電路。數據顯示，2016年中國晶圓制造行業市場規模突破1000億元，到2019年，中國晶圓制造行業市場規模超過2000億元，達到2149.1億元。預計2021年，我國晶圓制造行業市場規模或達到2941.4億元。
數據來源：中商產業研究院整理
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