3.光刻機競爭格局
目前，光刻機市場競爭格局明確，主要由阿斯麥(ASML)、日本尼康和佳能三家把持，其中ASML更是全球絕對龍頭，市占率83.3%，幾乎壟斷了高端光刻機（EUV）市場。日本尼康和佳能產品主要為中低端機型。國產光刻機領域中，上海微電子(SMEE)一枝獨秀。
國產光刻機市場前景廣闊，同時，為了避免在芯片產能爬坡時被外界的設備供應給“卡脖子”，國產光刻機正在逐步突破。近年來，我國科技取得了巨大突破，五年內有望解決高端芯片短缺問題。
數據來源：SEMI、中商產業研究院整理
4.光刻機重點企業
全球光刻機市場主要由荷蘭的ASML、日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）三家占據。如今雖然ASML正逐漸解除對華產品的禁售，但EUV這類的頂尖光刻機由于產能有限。
上海微電子深耕光刻機產品研發，承擔多項專項科研任務。目前公司光刻機產品主要包括IC前道光刻機、IC后道封裝光刻機、面板前道光刻機、面板后道封裝光刻機。作為國內光刻機設備領域的領航者，上海微電子承擔著國產光刻機設備的希望，若能實現光刻機設備的國產化，中國大力發展的半導體產業必將邁上一個新臺階。
資料來源：中商產業研究院整理
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