中商情報網訊：光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規模持續提升，中國有望承接半導體光刻膠產業鏈轉移。
一、光刻膠定義
光刻膠，也被稱為“光致抗蝕劑”，是一種用于光刻的載體介質，它可以利用光化學反應將光信息在光刻系統中經過衍射和過濾后轉化為化學能，從而將微細圖形從掩模版轉移到待處理的基板。
按顯影效果不同，光刻膠可分為正光刻膠和負光刻膠；按化學結構不同可分為光聚合型、光分解型和光交聯型；按下游應用可分為半導體光刻膠、面板光刻膠、PCB光刻膠。具體如圖所示：
資料來源：中商產業研究院整理
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