全球高純濺射靶材（High Purity Sputtering Target Material）主要廠商有Linde、Mitsui Mining & Smelting、JX Nippon Mining & Metals Corporation、Materion、Honeywell和Konfoong Materials International Co., Ltd等，全球前六大廠商共占有超過60%的市場份額。目前亞太是全球最大的高純濺射靶材市場，占有大約85%的市場份額，之后是北美市場，占有接近9%的份額。本文研究全球及中國市場高純濺射靶材現狀及未來發展趨勢，側重分析全球及中國市場的主要企業，同時對比北美、歐洲、中國、日本、東南亞、印度等地區的現狀及未來發展趨勢。2020年全球高純濺射靶材市場規模達到了124億元，預計2027年將達到189億元，年復合增長率(CAGR)為2.1%。本文重點分析在全球及中國有重要角色的企業，分析這些企業高純濺射靶材產品的市場規模、市場份額、市場定位、產品類型以及發展規劃等。主要企業包括：    Linde    Mitsui Mining & Smelting    JX Nippon Mining & Metals Corporation    Materion    Honeywell    Konfoong Materials International Co., Ltd    ULVAC    TOSOH    Luvata    Hitachi Metals    LT Metal    Sumitomo Chemical    Plansee SE    Fujian Acetron New Materials Co., Ltd    FURAYA Metals Co., Ltd    Luoyang Sifon Electronic Materials    Changzhou Sujing Electronic Material    Umicore    GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.    Advantec    Angstrom Sciences按照不同產品類型，包括如下幾個類別：    金屬濺射靶材    合金濺射靶材    非金屬濺射靶材按照不同應用，主要包括如下幾個方面：    半導體    太陽能    平板顯示器    硬盤驅動器    其他重點關注如下幾個地區:    北美    歐洲    中國    亞太    南美本文正文共8章，各章節主要內容如下：第1章：報告統計范圍、產品細分及全球總體規模及增長率等數據，2016-2027年；第2章：全球不同應用高純濺射靶材市場規模及份額等；第3章：全球高純濺射靶材主要地區市場規模及份額等；第4章：全球范圍內高純濺射靶材主要企業競爭分析，主要包括高純濺射靶材收入、市場份額及行業集中度分析；第5章：中國市場高純濺射靶材主要企業競爭分析，主要包括高純濺射靶材收入、市場份額及行業集中度分析；第6章：全球高純濺射靶材主要企業基本情況介紹，包括公司簡介、高純濺射靶材產品、高純濺射靶材收入及最新動態等；第7章：行業發展機遇和風險分析；第8章：報告結論。

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