三、中游分析
1.产品类别
光刻机按照有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机。这两类光刻机分别有不同的种类：无掩模光刻机分为电子束直写光刻机、激光直写光刻机、离子束直写光刻机，有掩模光刻机分为接近/接触式光刻机以及投影光刻机。
资料来源：中商产业研究院整理
2.销量
全球半导体设备行业复苏，受益于下游晶圆巨大需求、服务器云计算和5G基础建设的发展，相关芯片的需求增加。2022年约为510台，同比增长13.33%。随着下游市场需求持续升高，中商产业研究院分析师预测，2023全球市场仍将持续增长，销量将达550台。
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3.竞争格局
全球光刻机市场的主要竞争者为ASML、Nikon和Canon。2022年三大企业光刻机营收合计接近200亿美元，合计市场份额超过90%。其中，ASML光刻机营收约161亿美元，较2021年增长了23%，Canon光刻机营收约为20亿美元，Nikon光刻机业务营收约15亿美元。ASML市场份额占比82.1%，占绝对龙头地位。
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4.厂商出货量情况
在光刻机领域中，ASML拥有绝对优势，2022年共计出货量345台；佳能紧随其后，出货量达到176台；尼康相对数量较少，仅出货30台。其中，最先进的EUV光刻机，目前全球只有ASML有能力进行生产和销售。
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