中商情报网讯：光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，是半导体制造中使用的核心电子材料之一。伴随着晶圆制造规模持续提升，中国有望承接半导体光刻胶产业链转移。
一、光刻胶定义
光刻胶，也被称为“光致抗蚀剂”，是一种用于光刻的载体介质，它可以利用光化学反应将光信息在光刻系统中经过衍射和过滤后转化为化学能，从而将微细图形从掩模版转移到待处理的基板。
按显影效果不同，光刻胶可分为正光刻胶和负光刻胶；按化学结构不同可分为光聚合型、光分解型和光交联型；按下游应用可分为半导体光刻胶、面板光刻胶、PCB光刻胶。具体如图所示：
资料来源：中商产业研究院整理
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