中商情报网讯：光刻机是一种将目标结构图样印刷到硅片等基底上的机器，其机理类似照片冲印过程，是半导体制造中最为重要的设备之一。光刻机的工作流程主要包括准备、涂覆、曝光、显影、腐蚀、清洗和检测等步骤。光刻机技术是当前半导体制造领域的关键技术之一，其技术水平的提升直接决定了芯片制造工艺的进步和发展。目前，全球前道光刻机市场被ASML、尼康、佳能等公司垄断。
随着国家对半导体产业的重视和投入加大，国内光刻机企业开始加速自主研发和创新。上海微电子是国内唯一一家生产高端前道光刻机整机的公司，已经实现了90nm光刻机的量产，并在不断努力突破先进制程，加速国产化进程。此外，国内还有多家企业在光刻机产业链的相关零部件领域取得了突破，如光源系统、照明系统和投影物镜等环节。
资料来源：中商产业研究院整理
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